Filtr UV 55mm Ultra Low Reflection MRC NANO-X 8K PRO K&F Concept KF01.2462

Filtr UV 55mm Ultra Low Reflection MRC NANO-X 8K PRO K&F Concept KF01.2462

K&F CONCEPT filtr UV MRC 8k Slim Nano-X series.

Ultra Low Reflection - Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

Rozmiar filtra: 55mm

Japońskie szkło AGC

Filtr UV o bardzo niskim współczynniku odbicia charakteryzuje się przepuszczalnością światła ≥ 99,8% i odbiciem ≤ 0,1%, aby poradzić sobie z nagrywaniem filmów HD 4K/8K i fotografią.

Filtr z innowacyjnymi powłokami NANO X (28 powłok)

Wielowarstwowe powłoki antyrefleksyjne PRO NANO-X MRC znacznie ograniczają refleksy świetlne.

Ochronna powłoka - filtr jest odporny na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne, hydrofobowy, odporny na zabrudzenia i kurz, łatwy w czyszczeniu.

Wysoka jakość i rozdzielczość optyczna japońskiego szkła Ultra HD, 8k.

Brak negatywnego wpływu na pracę autofokusa.

Brak negatywnego wpływu na kolorystykę zdjęć.

Brak winietowania przy stosowaniu z obiektywami szerokokątnymi.

Niski profil SLIM, ramka o grubości 3,3mm.

Ramka wykonana z wytrzymałego, galwanicznie czernionego aluminium.

Plastikowe opakowanie do przechowywania filtra.

Pasuje do wszystkich obiektywów o rozmiarze gwintu na filtry 55mm.